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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:TN-EVV195-II-HH-SS
  • 產(chǎn)品廠商:泰諾
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀適用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和某些有機材料薄膜
詳情介紹:

本儀器是一種具有兩個蒸發(fā)源的高真空蒸發(fā)鍍膜儀,鎢絲籃(或鎢舟)用作蒸發(fā)源,并且樣品臺和蒸發(fā)源之間的距離是可調(diào)的。 該儀器可以穩(wěn)定地蒸發(fā)金屬和某些有機物。 采用高真空不銹鋼腔體,密封性能好,真空性能好。 該腔室配有觀察窗,因此可以看到涂層過程。 采用分子泵系統(tǒng)的**真空10E-4Pa,可有效提高涂層質(zhì)量,并能滿足大多數(shù)蒸發(fā)涂層實驗所需的真空環(huán)境。

高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀用途:

高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀適用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和某些有機材料薄膜。

高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀

產(chǎn)品型號

TN-EVV195-II-HH-SS

樣品臺

位  置

頂部設(shè)置

外形尺寸

直徑φ65mm

轉(zhuǎn)  速

0-20 rpm

間  距

樣品架和蒸發(fā)源之間的距離可調(diào)

可調(diào)溫度

500

熱蒸發(fā)源

鎢絲籃×2個,鎢舟×2

蒸發(fā)電源

每個蒸發(fā)源配一組獨立電源;雙個蒸發(fā)源可同時共蒸

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ195mm×H210mm

觀察窗口

直徑φ100mm

腔體材質(zhì)

304不銹鋼

開啟方式

前開門式

膜厚測量

晶體膜厚測量儀(也可選膜厚控制儀)

真空系統(tǒng)

前級泵

雙極旋片泵,氣體抽速1.1L/S

次級泵

渦輪分子泵,氣體抽速600L/S

真空測量

復(fù)合真空計(電離規(guī)+電阻規(guī))

系統(tǒng)真空

5×10-4Pa

控制系統(tǒng)

CYKY自研專業(yè)級控制器

其他參數(shù)

供電電源

AC380V,50Hz

整機尺寸

600mm×650mm×1500mm

整機功率

7KW

整機重量

260kg

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