

0371-5536 5392 0371-5519 9322
三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀,設(shè)備采用前開門式真空腔體設(shè)計,腔體空間大,可拓展性強(qiáng),能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發(fā)鍍膜。腔體內(nèi)配有上置樣品臺,可根據(jù)用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺可旋轉(zhuǎn)、加熱,所有操作均通過觸控屏集成控制。設(shè)備的真空泵組為兩級式真空系統(tǒng),由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組成,可為真空鍍膜試驗提供清潔無油的高真空的環(huán)境;真空系統(tǒng)內(nèi)含有完善的氣動閥系統(tǒng),用戶可通過觸控屏進(jìn)行一鍵式操作實現(xiàn)抽取真空、不停機(jī)取放樣、完全停機(jī)等操作。
三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀詳情介紹:
本設(shè)備的蒸發(fā)源共三組,采取鎢舟蒸發(fā)源,水冷式銅電極,可*大支持260A的大電流,加熱溫度*高可達(dá)1800℃,可實現(xiàn)多種難熔金屬的蒸鍍,三組獨立熱蒸發(fā)源,不會導(dǎo)致鍍材互相污染。本設(shè)備采用一體化設(shè)計,腔體和電控部分左右分置,實現(xiàn)了水電分離,有力的保證了用戶的**。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結(jié)合的設(shè)計,真空系統(tǒng)、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作,通電蒸發(fā)、膜厚控制等通過面板獨立操作,在盡可能方便用戶的同時規(guī)避了誤操作的可能。該設(shè)備設(shè)計完善性能優(yōu)越,是實驗室高精度蒸發(fā)鍍膜試驗的必備之選。
三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用領(lǐng)域:
金屬和介電膜
薄膜傳感器的制造
光學(xué)元件
納米與微電子
太陽能電池
三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀 |
||
樣品臺 |
尺寸 |
*大支持φ150mm樣品 |
功能 |
可旋轉(zhuǎn),*高加熱500℃ |
|
蒸發(fā)源 |
數(shù)量 |
鎢舟x3 |
電源 |
每個蒸發(fā)源配一組獨立電源;三個蒸發(fā)源共三組獨立電源 |
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ300x400mm |
觀察窗口 |
前置φ100mm |
|
腔體材料 |
304不銹鋼 |
|
開啟方式 |
前開門式 |
|
膜厚控制(選配) |
晶振式膜厚測量儀,可選多通道膜厚控制儀 |
|
真空系統(tǒng) |
前級泵 |
雙極旋片泵 |
抽氣接口 |
KF16 |
|
次級泵 |
渦輪分子泵 |
|
抽氣接口 |
CF160 |
|
真空測量 |
電阻+電離 復(fù)合真空規(guī) |
|
排氣速率 |
機(jī)械泵1.1L/s 分子泵 600L/s |
|
極限真空 |
1.0E-5Pa |
|
供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
|
抽氣速率 |
旋片泵:1.1L/S |
|
控制系統(tǒng) |
PLC自動控制 操作界面:觸控屏+操作面板 (觸摸屏可控制沉積過程和快速數(shù)據(jù)輸入;用戶友好 PLC 軟件系統(tǒng),可以通過網(wǎng)絡(luò)更新) |
|
其他 |
供電電壓 |
AC380V,50Hz |
整機(jī)尺寸 |
1000mm X 800mm X 1500mm |
|
整機(jī)功率 |
5kW |
|
整機(jī)重量 |
350kg |