TN-PSP180G-2TA-RS 小型雙靶等離子濺射鍍膜儀（標準版-旋轉樣品臺）是我公司自主研發(fā)的一款高性價比等離子濺射鍍膜設備，具有結構緊湊，簡單易用，集成度高，旋轉樣品臺提高鍍膜均勻性。等離子濺射靶為2英寸的標準尺寸，客戶可以根據(jù)需要選擇1~3個靶的不同配置，以滿足鍍單層膜或者多種材料多層膜的不同實驗需求。儀器所配電源為150W直流高壓電源，可用于金屬濺射鍍膜，尤其適合金銀銅等貴金屬的鍍膜。

產品名稱	小型雙靶等離子濺射鍍膜儀（標準版-旋轉樣品臺）
產品型號	TN-PSP180G-2TA-RS
主要特點	自主研發(fā)、高性價比 具有結構緊湊，簡單操作 旋轉樣品臺，鍍膜更均勻 150W直流高壓電源，金屬濺射鍍膜
技術參數(shù)	1、旋轉樣品臺：尺寸φ100mm；轉速：1-20rpm可調 2、直流濺射頭：數(shù)量2” ×2   3、真空腔體：尺寸：φ180mm × 210mm、材料高純石英、全向透明、頂蓋拆卸式 4、真空系統(tǒng)：雙極旋片真空泵 ；抽氣速率：旋片泵：1.1L/S；極限真空：≥0.1Pa     抽氣/排氣接口：KF16； 真空測量：電阻規(guī)； 5、濺射電源配置：直流電源 ×1；max輸出功率:150W，濺射電壓1200V，*大濺射電流50mA
產品規(guī)格	尺寸500mm × 320mm × 470mm；重量30kg ；供電電壓：AC220V,50Hz；功率1500W

1. 鍍膜儀配有通氣接口，可通入保護性氣體，若客戶需通入混合氣體，可聯(lián)系工作人員自行配置高精度質量流量計以滿足實驗需要。

2.本鍍膜儀標配為雙極旋片真空泵，其具有體積小，抽真空快，操作簡單的優(yōu)勢，若客戶有進一步提升真空度的需要，可以聯(lián)系技術人員選配分子泵組組成高真空系統(tǒng)。

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