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三靶磁控濺射鍍膜儀 TN-600-3HD三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發(fā)的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜...
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單靶磁控濺射鍍膜儀 本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。...
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高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀 高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀適用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和某些有機材料薄膜
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高真空雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛...
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電子束蒸發(fā)鍍膜儀 電子束蒸發(fā)鍍膜儀以電子束蒸發(fā)方式鍍膜設(shè)備，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡...
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PLD脈沖激光濺射沉積設(shè)備 該PLD脈沖激光濺射沉積設(shè)備系列設(shè)備主要用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔...
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5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐不銹... 近距離有機物蒸發(fā)鍍膜爐是一種雙加熱區(qū)快速熱處理爐,它是研究新一代太陽能電池薄膜的主要工具，如CdTe、硫化物和鈣鈦礦太陽...
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帶手套箱三源蒸發(fā)鍍膜儀 鍍膜設(shè)備以金屬/有機源蒸發(fā)為主體，適用于實驗室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導體膜