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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:雙靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:TN-MSP500S-2DC
  • 產(chǎn)品廠商:泰諾
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備
詳情介紹:
雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購;所配電源為兩個(gè)500W直流電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,兩個(gè)靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。

鍍膜儀具有兩路高精度質(zhì)量流量計(jì),客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計(jì)的氣路,以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求;儀器標(biāo)配先進(jìn)的渦輪分子泵組,極限真空可達(dá)1.0E-5Pa,同時(shí)另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個(gè)電磁閥控制,可以實(shí)現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機(jī)工控電腦對系統(tǒng)進(jìn)行控制,在電腦程序上可以實(shí)現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能,可以進(jìn)一步提高您的實(shí)驗(yàn)效率。


雙靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍:

雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。


技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

雙靶磁控濺射儀

濺射電源

安裝有兩個(gè)直流電源 直流(DC)電源:500W

真空腔體

真空腔體:300 mm Dia x 300 mm h,采用不銹鋼制作 觀察窗口: 100 mm diameter 腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易

磁控濺射頭

儀器中安裝有 2 個(gè)磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層,可通入冷卻水 對靶材降溫

兩個(gè)濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導(dǎo)電性靶材

載樣臺

載樣臺尺寸:140mm dia.(*大可放置 4"的基底) 載樣臺可以旋轉(zhuǎn),其速度為:1 - 20 rpm (可調(diào)) 載樣臺*高可加熱溫度為 500℃,控溫精度為+/- 1.0 °C

氣體流量控制器

儀器內(nèi)部安裝有 2 個(gè)質(zhì)量流量計(jì) 量程為:0-200sccm

真空泵

配有一套分子泵系統(tǒng),采用一鍵式操作 80L/S

水冷系統(tǒng)

16L/min.

電壓

220V 50HZ


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