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雙靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購；所配電源為兩個(gè)500W直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，兩個(gè)靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀適用范圍：
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。雙靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
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產(chǎn)品名稱 |
雙靶直流磁控濺射儀 |
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濺射電源 |
安裝有兩個(gè)直流電源 直流（DC）電源：500W |
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真空腔體 |
真空腔體：300 mm Dia x 300 mm h，采用不銹鋼制作 觀察窗口： 100 mm diameter 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易 |
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磁控濺射頭 |
儀器中安裝有 2 個(gè)磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水 對靶材降溫 兩個(gè)濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導(dǎo)電性靶材 |
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載樣臺(tái) |
載樣臺(tái)尺寸：140mm dia.（*大可放置 4"的基底） 載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)） 載樣臺(tái)*高可加熱溫度為 500℃，控溫精度為+/- 1.0 °C |
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氣體流量控制器 |
儀器內(nèi)部安裝有 2 個(gè)質(zhì)量流量計(jì) 量程為：0-200sccm |
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真空泵 |
配有一套分子泵系統(tǒng),采用一鍵式操作 80L/S |
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水冷系統(tǒng) |
16L/min. |
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電壓 |
220V 50HZ |
