0371-5536 5392 0371-5519 9322
新聞詳情
蒸發(fā)鍍膜儀的應用與功能特點
日期：2025-04-25 21:06
瀏覽次數(shù)：334
摘要：
蒸發(fā)鍍膜儀主要應用于大專院校、科研機構、企業(yè)實驗室及微小產(chǎn)品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產(chǎn)。
蒸發(fā)鍍膜儀功能特點：
采用桌面小型一體化結構，將真空腔體、鍍膜電源及控制系統(tǒng)進行整合設計，體積與一臺A3打印機相仿。
采用電阻式雙蒸發(fā)源結構，可快速實現(xiàn)蒸發(fā)源的轉(zhuǎn)換。蒸發(fā)單元中裝有兩組蒸發(fā)電極可安裝不同的蒸發(fā)源，適應相應的鍍膜材料。
配有0.1%精度蒸發(fā)電源，并具有恒流輸出功能，對蒸發(fā)舟能起到很好的保護作用。
可選配石英晶體膜厚控制儀，在鍍膜過程中對鍍膜速率和膜層厚度進行控制。
可將采集到的鍍膜數(shù)據(jù)保存到U盤，便于用戶分析控制（選配）。
本機將所有功能設計成標準化模塊，根據(jù)用戶不同的需求對相應模塊進行組合，以達到**化的鍍膜環(huán)境，并便于用戶維修與維護。
操作控制采用7英寸TFT顯示屏顯示操作界面，觸屏操作，實現(xiàn)全圖形化界面，易用易懂。