小型樣品臺(tái)往復(fù)單靶磁控鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇；所配電源為150W直流電源，可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口，可以通入保護(hù)性氣體，若客戶需要通入混合氣體，可以聯(lián)系工作人員自行配置高精度質(zhì)量流量計(jì)以滿足實(shí)驗(yàn)需要。儀器標(biāo)配先進(jìn)的渦輪分子泵組，極限真空可達(dá)1.0E-5Pa，同時(shí)另有其他類型的分子泵可供選購。

名稱	小型樣品臺(tái)往復(fù)單靶磁控鍍膜儀
特點(diǎn)	往復(fù)樣品臺(tái)，鍍膜更加均勻，高效 可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等 與同類設(shè)備相比，經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，高度集成
技術(shù)參數(shù)	往復(fù)樣品臺(tái)： 尺寸 50*100mm， 往復(fù)速度 0~50mm/s 磁控靶槍： 2 英寸圓形平面靶, 濺射真空 10Pa～0.2Pa,  靶材厚度 建議2～5mm, 靶頭溫度 ≦65℃ 真空腔體：  約為Φ180mm × H 215mm;高純石英; 觀察窗口 全向透明; 開啟方式 頂蓋拆卸式 直流電源： 功率 *大150W ，數(shù)量 1 分子泵系統(tǒng)  前級(jí)泵： 旋片泵 VRD-4 、抽速 1.1L/S、 極限真空 5*10-1Pa 分子泵：分子泵、抽速600L/S、 額定轉(zhuǎn)速 24000rpm、 極限真空 5*10-5Pa、                         振動(dòng)值 ≦0.1um、 啟動(dòng)時(shí)間 ≦4.5min、 停機(jī)時(shí)間 <7min、 冷卻方式 水冷+風(fēng)冷 水冷機(jī)： 冷卻水溫度 ≦37℃， 冷卻水流速 10L/min 供電電壓：AC220V 50Hz