○ 產品介紹

本套CVD系統(tǒng)專為石墨烯生產設計，采用1200℃迷你管式爐，配有高精度質量流量計以及薄膜真空規(guī)。相比于常規(guī)的皮拉尼電阻規(guī)，薄膜規(guī)的讀數(shù)精準，不受氣體種類影響，十分適合真空鍍膜工藝。同時設備配有可燃氣體檢測裝置，聯(lián)動出氣口電磁閥，一旦出現(xiàn)泄漏電磁閥即可自行關閉保證**。
該套設備功能齊全占地面積較小，十分適合實驗室制備CVD

○ 技術參數(shù)    

1200℃迷你管式爐參數(shù) 

供電電壓	AC220V,50Hz
*大功率	2KW
加熱溫區(qū)	單溫區(qū)200mm 恒溫區(qū)長 100mm
加熱元件	耐熱合金絲
熱電偶	K型
工作溫度	≤1150℃
升溫速率	建議≤10℃
控溫	方式AI-PID 30段工藝曲線，帶有過熱和斷偶保護，精度+-1℃
爐管	高純石英φ50mm O.D x 450mm L
真空系統(tǒng)	機械泵  抽速1.1L/s 極限真空 5Pa

三路質量流量計參數(shù)

閥門類型	不銹鋼針閥
氣路數(shù)量	三路
承壓范圍	0.05~0.3MPa
量程	Ar 0~500sccm H2 0~200sccm CH4 0~10sccm
流量控制范圍	±1.5%
混氣罐容積	750mL
氣路材料	304不銹鋼
管道接口	6.35mm卡套接頭
供電電源	AC220V 50Hz

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